利用獨(dú)特的版圖編輯和驗(yàn)證功能，化解 MEMS 設(shè)計(jì)挑戰(zhàn) — 第 1 部分

MEMS 版圖與 IC 版圖之間的一大區(qū)別在于是否能使用獨(dú)特的不規(guī)則形狀。在傳統(tǒng)的 CMOS IC 設(shè)計(jì)中，版圖形狀通常是曼哈頓樣式（例如矩形和直角多邊形）或具有用于布線的 45 度邊的多邊形；而 MEMS 設(shè)計(jì)則與之不同，其可廣泛應(yīng)用于機(jī)械、光學(xué)、磁、流體和生物學(xué)領(lǐng)域，因而所使用的幾何形狀也就千變?nèi)f化，較為繁復(fù)。本白皮書將分兩部分闡述，為什么說支持實(shí)現(xiàn)不規(guī)則形狀（包括曲線和全角多邊形）和輕松使用這一實(shí)現(xiàn)，是區(qū)分面向 MEMS 的 CAD 工具與傳統(tǒng)的面向 IC 的工具的關(guān)鍵標(biāo)準(zhǔn)。（第 1 部分重點(diǎn)介紹版圖編輯；第 2 部分重點(diǎn)介紹驗(yàn)證）。