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半導體前道CMP耗材供應(yīng)商列表

2024/01/10
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半導體前道材料是目前半導體投資領(lǐng)域的又一個熱門話題。不過它的種類繁多,可謂是五花八門。僅僅一個CMP領(lǐng)域里也用到了好多種,而且供應(yīng)商也各不相同

之前我就已經(jīng)發(fā)布過幾個版本的數(shù)據(jù)了。不過后來又有行業(yè)朋友指點我還有不少重要的分類需要補充

目前我整理的數(shù)據(jù)里,CMP工藝環(huán)節(jié)用到的主要耗材有:

研磨液:Slurry
研磨墊:Pad
清洗液:pCMP Clean修正盤:Conditioner (這個是用來保持研磨墊表面粗糙度的一個金剛石研磨盤)
過濾器:Filter
保持環(huán):Retaining Ring (固定晶圓用的一種工程塑料制品)清潔刷:Brush
吸附膜:Membrane

其中后面三個品類應(yīng)該是我這一版里新增的。麻煩大家參考的同時,也幫忙確認一下。如果發(fā)現(xiàn)任何問題,歡迎和我交流,或者在公眾號里留言謝謝了

注)上面的表格中,有些公司的名字可能產(chǎn)生歧義,所以我在最后做個補充說明,避免大家誤解TWI: Thomas West AGC: Ashahi Glass Resonac力森諾科: Showa Denko?昭和電工 更名

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器件型號 數(shù)量 器件廠商 器件描述 數(shù)據(jù)手冊 ECAD模型 風險等級 參考價格 更多信息
LPS3015-332MRC 1 Coilcraft Inc General Purpose Inductor, 3.3uH, 20%, 1 Element, Ferrite-Core, SMD, 1212, CHIP, 1212, HALOGEN FREE AND ROHS COMPLIANT

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KR-5R5C105-R 1 Cooper Industries CAPACITOR, ELECTRIC DOUBLE LAYER, 5.5V, 1000000uF, THROUGH HOLE MOUNT, RADIAL LEADED
$4.4 查看

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