一個(gè)好的干法刻蝕結(jié)果是什么樣的？

知識(shí)星球（星球名：芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)，星球號(hào)：63559049）里的學(xué)員問(wèn)：干法刻蝕后的刻蝕效果怎么來(lái)評(píng)價(jià)？要考慮哪些方面？

1，對(duì)不需要刻蝕的材料具有高選擇比不需要刻蝕的材料一般是硬掩模，光刻膠或下層材料。選擇比是指刻蝕目標(biāo)材料相對(duì)于保護(hù)層或下層材料的速率比。選擇比越高，掩模和下層材料損耗的越少。

2，盡可能高的刻蝕速率刻蝕速率指的是單位時(shí)間內(nèi)材料被去除的厚度。適當(dāng)?shù)目涛g速率能夠確保制造過(guò)程的效率，同時(shí)滿足生產(chǎn)需求。但是過(guò)高的速率會(huì)導(dǎo)致刻蝕不均勻，而過(guò)低的速率會(huì)影響產(chǎn)能。因此要在保證質(zhì)量的情況下，盡可能提高刻蝕速率。

3，側(cè)壁剖面控制良好

如上圖，在刻蝕過(guò)程中，會(huì)出現(xiàn)各類(lèi)的截面形狀，好的刻蝕截面一般要求刻蝕后的側(cè)壁垂直且光滑，這樣可以確保設(shè)計(jì)尺寸的精確性，避免影響到器件性能。4，片內(nèi)均勻性好

片內(nèi)均勻性可以用標(biāo)準(zhǔn)偏差來(lái)表示，見(jiàn)文章：薄膜沉積的均勻性怎么計(jì)算？

良好的片內(nèi)均勻性能夠確保所有器件的特性一致，避免因不均勻刻蝕導(dǎo)致的電性能差異和良率降低。5，晶圓表面形貌好粗糙度低，顆粒少，化學(xué)殘留少，凹坑、裂紋、針孔、劃痕等少。6，掩模去除容易7，刻蝕尺寸在標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)

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