芯耀
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首先簡單來說一下光刻機，光刻機作為半導體行業(yè)中重中之重的利器，中科院光電所的胡松、賀曉棟在《中科院之聲》發(fā)表的一篇文章中這樣介紹它的重要性：后工業(yè)時代包括現(xiàn)在的工業(yè) 3.0、工業(yè) 4.0，都以芯片為基礎，光刻機作為制造芯片的工具，就相當于工業(yè)時代的機床，前工業(yè)時代的人手。
五代光刻機
根據(jù)所使用的光源的改進以及工藝的不斷創(chuàng)新，光刻機經歷了五代產品的發(fā)展，其中每次光源的改進都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。
國產光刻機為何“難產”
盡管中芯國際表示可以不使用光刻機，用自研的“N+1”制程工藝就能夠研發(fā)出 7nm 工藝（逼得中芯都直接不用光刻機了），但 5nm 乃至更先進制程工藝芯片產品也是離不開光刻機的。
據(jù)消息稱，華為目前所設計的芯片已經正式進入到了 5nm 時代，即將在下半年推出的麒麟 1020 芯片就會采用 5nm 芯片工藝。
此外，近期國產光刻機也迎來好消息:上海微電子公司打破封鎖,研發(fā)出 22nm 光刻機。雖然與國外差距還很大，但這也是我國在光刻機領域的先進水平。
相信未來隨著國產自主研發(fā)的步伐，我們能擺脫對國外廠商的依賴，國產芯片能實現(xiàn)飛速發(fā)展。但在未來之前，還有很長一段路要走。
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