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貝達先進材料公司成立於2006年,應用特有之專利技術,專注研發(fā)、設計、測試與加工製造高精密度研磨拋光墊片(Polishing Pad),產(chǎn)品應用於微電子、顯示器、光學、晶體襯底材料與硬碟基版等各種需要化學機械精密研磨拋光(Chemical Mechanical Polish, CMP) 的產(chǎn)業(yè)。 收起 展開全部
產(chǎn)業(yè)鏈 半導體半導體材料 收起 展開全部
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