光罩

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光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過(guò)程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型復(fù)制於晶圓上，必須透過(guò)光罩作用的原理，類(lèi)似于沖洗照片時(shí)，利用底片將影像復(fù)制至相片上。

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過(guò)程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型復(fù)制於晶圓上，必須透過(guò)光罩作用的原理，類(lèi)似于沖洗照片時(shí)，利用底片將影像復(fù)制至相片上。收起

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