High-NA

• 深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)

  各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競爭，爭相導(dǎo)入或宣布市場進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。

  AI芯天下

  2601

  2024/11/28

  光刻機 EUV光刻機

  
• 近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了

  7月17日，全球最大的光刻設(shè)備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預(yù)訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預(yù)訂額。不過相比去年同期的營收69億歐元、凈利潤19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績不及當(dāng)時水平。

  全球半導(dǎo)體觀察

  2226

  2024/07/19

  半導(dǎo)體設(shè)備 ASML

  
• High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？

  光刻機一直是半導(dǎo)體領(lǐng)域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ)；再到后來的極紫外光刻機（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機（High-NA）正式登上歷史舞臺，進(jìn)一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  3851

  2024/03/26

  光刻機 EUV光刻機

  
• 2nm、1nm全靠它！High-NA EUV光刻機2025年末將正式商用

  3納米代工市場規(guī)模2026年將達(dá)到242億美元，比今年（12億美元）增加20倍以上。目前，三星電子是唯一一家宣布成功量產(chǎn)3納米的企業(yè)。三星電子、臺積電、英特爾等主要半導(dǎo)體企業(yè)開始引進(jìn)EUV設(shè)備，隨著工程技術(shù)的發(fā)展，預(yù)計3納米將成為核心先進(jìn)工藝

  芯片說 IC TIME

  911

  2022/12/10

  EUV光刻機 High-NA
• 下一代EUV光刻機，萬事俱備？

  光刻機在半導(dǎo)體領(lǐng)域一向是個熱門話題，這個能一次又一次突破工藝極限的設(shè)備仿佛一個時光機器，連接著芯片的現(xiàn)在和未來。從ASML宣布將推出下一代光刻機開始，人們的目光就從當(dāng)前最新一代的0.33 NA光刻系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到了下一代0.55NA 光刻系統(tǒng)身上。

  半導(dǎo)體行業(yè)觀察

  891

  2022/05/31

  ASML EUV光刻機

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