“SiCN”專為中國市場打造，PVA TePla助推新質生產力

第三代半導體材料禁帶寬度大，具有擊穿電場高、熱導率高、電子飽和速率高、抗輻射能力強等優(yōu)勢，不僅能在更高溫度下穩(wěn)定運行，適用于高電壓、高頻率場景，還能以較少的電能消耗，獲得更高的運行能力。

尤其以碳化硅（SiC）為代表的第三代半導體材料，隨著制備工藝逐步成熟，生產成本不斷降低，碳化硅在下游新能源汽車、光伏發(fā)電、儲能等應用領域的滲透率持續(xù)提高，碳化硅半導體整體市場規(guī)模呈現快速增長態(tài)勢。而碳化硅晶片作為襯底材料，主要技術難點在于晶體生長，碳化硅晶體生產設備的穩(wěn)定性和質量一致性具有關鍵作用。

全球半導體設備制造商德國PVA TePla集團本次亮相半導體行業(yè)盛會 SEMICON China 2024，向行業(yè)展示其最新打造的國產碳化硅晶體生長設備“SiCN”。 德國PVA TePla集團半導體業(yè)務中國區(qū)負責人謝秀紅介紹：“該設備專為中國市場定制，并結合半導體行業(yè)生產特點，將德國的設計經驗和理念與中國本土化生產配套能力優(yōu)勢聯合，采用PVT法（物理氣相傳輸工藝）生產碳化硅晶體，計劃于2024年第二季度投入市場?！?/p>

圖源：SEMICON China 2024，PVA TePla媒體會，德國PVA TePla集團半導體業(yè)務中國區(qū)負責人謝秀紅

“SiCN”具有如下特點，

• 定制化：特定的晶體生長工藝通常是企業(yè)的高度機密，定制化晶體生長平臺對于驗證和優(yōu)化其工藝至關重要。PVA TePla可為客戶提供專業(yè)定制化解決方案，以滿足行業(yè)獨特的工藝和知識產權需求，從而實現無縫擴展以進行大規(guī)模生產。
• 靈活性：“SiCN”的設計可采用和更換成熟供應商的標準組件以及定制組件，保證設備可以使用最新的研發(fā)成果，實現持續(xù)的技術進步。
• 可靠生產：“SiCN”系統(tǒng)設計緊湊，自動化程度高，可最大化節(jié)約整體運營空間，同時方便維護，可實現可靠的大規(guī)模生產?？蛻暨€可整合如加料小車、多種真空泵選項和測量設備等其他部件，進一步提升系統(tǒng)功能。
• 高生產效能：晶體生長過程需要具備在超過2,000°C的高溫條件下長時間運行，因此優(yōu)異的能源效率可以實現更佳的成本效益?！癝iCN”采用經驗證的低能耗感應線圈設計，實現高效率的感應加熱，有效降低能耗，優(yōu)化生產成本。

值得關注的是，作為最早將碳化硅晶體設備引入中國市場的企業(yè)之一，德國PVA TePla集團是全球領先的材料和測量測試技術領域高科技解決方案供應商，成立于1991年，業(yè)務遍布全球8個國家，其中亞洲地區(qū)貢獻39%的營業(yè)收入。近年來集團營業(yè)收入保持穩(wěn)定增長并呈現加速態(tài)勢，2022年和2023年營業(yè)收入分別增長31.8%、28%。

圖源：SEMICON China 2024，PVA TePla媒體會

德國PVA TePla集團已在全球范圍內銷售SiC晶體生長系統(tǒng)，并與全球領先的主流碳化硅襯底材料供應商共同研發(fā)并為其提供長晶設備，其設備穩(wěn)定性和產品質量一致性，在大尺寸碳化硅材料的研發(fā)過程中起到了關鍵作用。德國PVA TePla集團致力于融合中德前沿技術優(yōu)勢，“SiCN”融匯了中國的本土化采購、生產配套能力和德國的技術積累和傳承，通過設備更好的可靠性和一致性運行，有效提高良品率，在降低制造成本的同時達到更優(yōu)效益，幫助下游客戶有效提高最終產品的附加值和核心競爭力。

謝秀紅表示：“西安普發(fā)半導體作為實現德國PVA集團中國布局的戰(zhàn)略平臺，將為集團公司實現設備零部件的國內采購、加工制造、安裝調試提供本地支持，致力于實現高端設備國產化，服務于中國半導體材料市場，為中國半導體和集成電路產業(yè)實現原材料的技術突圍提供強有力的支持。”

碳化硅市場高質量發(fā)展離不開產業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)廠商的協同助力，以PVA TePla為代表的設備廠商們正持續(xù)推動技術創(chuàng)新，提供高效可靠的生產設備和精準的服務支持，滿足市場對高性能碳化硅產品的不斷增長的需求。