ASML的EUV光刻機型號匯總

上期文章中，我們列舉了ASML的G線，i線光刻機型號，見文章：ASML的光刻機型號匯總(上)

本期，我們要羅列下ASML的EUV光刻機的型號及主要技術(shù)參數(shù)。

ASML公司的EUV介紹極紫外光刻 (EUV) 技術(shù)使用波長為13.5納米的光。高能激光聚焦在熔融錫的微小液滴上，產(chǎn)生等離子體并發(fā)射出EUV光。錫滴的溫度可達(dá)到 220,000 攝氏度——是太陽平均表面溫度的 40 倍。

然后，光線通過蔡司鏡反射到晶圓表面，從而在晶圓上呈現(xiàn)出芯片的設(shè)計的圖案。截至 2022 年，ASML 已出貨約 140 臺 EUV 系統(tǒng)，而且它是唯一一家制造EUV的公司。

ASML 最暢銷的 EUV 產(chǎn)品是 TWINSCAN NXE:3600D，其售價高達(dá) 2 億美元。這臺光刻機約180噸，卡車大小的體積，需要用三架波音 747運輸。ASML的EUV光刻機主要是TWINSCAN NXE，TWINSCAN EXE系列，見下表：

下期我們會總結(jié)ASML公司DUV光刻機型號。

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