芯耀
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“KLA-Tencor 成立于 1976 年，今年是 KLA-Tencor 成立 40 周年。在高科技行業(yè)里，持續(xù)、抓實(shí)地成長(zhǎng)并保持領(lǐng)先地位，是非常不容易的?，F(xiàn)在，KLA-Tencor 有 2 萬(wàn)多臺(tái)設(shè)備服務(wù)于全球半導(dǎo)體行業(yè)；KLA-Tencor 在全球 17 個(gè)國(guó)家擁有 5600 多位員工。2016 財(cái)年，KLA-Tencor 營(yíng)收達(dá)到 30 億美元。” 近日，KLA-Tencor（科磊）公司在光罩檢測(cè)系統(tǒng)新品發(fā)布會(huì)上，科天中國(guó)總裁張智安做出上述發(fā)言。
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科天中國(guó)總裁張智安
40 載先進(jìn)檢測(cè)技術(shù)耕耘路
KLA-Tencor 是一家專注于半導(dǎo)體前端、后端以及相關(guān)產(chǎn)業(yè)檢測(cè)與量測(cè)的設(shè)備廠商，最早涉足的領(lǐng)域?yàn)楣庹值臋z測(cè)與量測(cè)。在硅片檢測(cè)、線寬量測(cè)以及光罩檢測(cè)與量測(cè)方面，KLA-Tencor 都處于業(yè)界領(lǐng)先水平。除此之外，KLA-Tencor 還提供技術(shù)支持與服務(wù)，以幫助客戶實(shí)現(xiàn)更大的生產(chǎn)價(jià)值。
張智安總裁表示：KLA-Tencor 非常重視技術(shù)上的革新與發(fā)展，這是 KLA-Tencor 這么多年長(zhǎng)盛不衰的一個(gè)重要原因，過(guò)去 4 年，KLA-Tencor 在研發(fā)方面的投入超過(guò) 2 億美元。
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助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展
KLA-Tencor 非常重視中國(guó)市場(chǎng)，現(xiàn)在已有 1600 臺(tái) KLA-Tencor 的設(shè)備深深扎根于中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)中。除了持續(xù)為中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)提供高端設(shè)備，KLA-Tencor 堅(jiān)持在中國(guó)進(jìn)行持續(xù)的投資以實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步的發(fā)展。KLA-Tencor 不僅在上海設(shè)立總部，在北京、天津、蘇州、無(wú)錫、大連、西安、武漢、深圳設(shè)有分支機(jī)構(gòu)。上?？偛坑兄鴱?qiáng)大的研發(fā)實(shí)力，而深圳可以完成設(shè)備的生產(chǎn)。
從研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售到技術(shù)支持，KLA-Tencor 堅(jiān)持與中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一起成長(zhǎng)。而且張智安總裁表示，KLA-Tencor 早早已經(jīng)進(jìn)入中國(guó)，進(jìn)行研發(fā)、建設(shè)工廠，在過(guò)去 10 年一直在等待中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)的機(jī)會(huì)。
KLA-Tencor 立志于幫助中國(guó)客戶一起提升良率，先進(jìn)的半導(dǎo)體檢測(cè)與量測(cè)技術(shù)、最快的速度、最有效的方式，KLA-Tencor 的技術(shù)與服務(wù)為中國(guó)半導(dǎo)體的發(fā)展提供助力。生產(chǎn)成本的降低、生產(chǎn)效率的提高，在競(jìng)爭(zhēng)激烈的今天，KLA-Tencor 為中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)在市場(chǎng)贏得一席之地提供動(dòng)力。
“發(fā)家”技術(shù)，光罩檢測(cè)與量測(cè)
KLA-Tencor 的光罩產(chǎn)品事業(yè)部 (RAPID) 副總裁兼總經(jīng)理熊亞霖博士表示，KLA-Tencor 于 40 年前開(kāi)發(fā)的第一項(xiàng)產(chǎn)品就是光罩檢測(cè)設(shè)備，當(dāng)時(shí)英特爾使用人力在顯微鏡下進(jìn)行光罩檢測(cè)，而 KLA-Tencor 的設(shè)備大大提高了光罩檢測(cè)的效率。
光罩產(chǎn)品事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理熊亞霖博士（左三）
光罩缺陷對(duì)良率影響非常嚴(yán)重，每一片光罩都需要經(jīng)過(guò)多次檢測(cè)，光罩上一個(gè)缺陷就極可將良率降到零，所以不允許一個(gè)缺陷不被檢測(cè)到。光罩廠、硅片廠都需要非常優(yōu)秀的光罩檢測(cè)設(shè)備的支持與輔助，才能保證產(chǎn)品的質(zhì)量。
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由于 EUV 技術(shù)仍無(wú)法實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)目標(biāo)，目前以 193 納米生產(chǎn)光罩，而困難度及復(fù)雜度更高，光罩缺陷的檢測(cè)挑戰(zhàn)性亦日益升高。
10 納米是一個(gè)嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)，在硅片上辨別缺陷已經(jīng)很難；同樣，在光罩檢測(cè)與量測(cè)方面，也是一個(gè)跨越。
近日，KLA-Tencor 針對(duì) 10 納米及以下的掩膜技術(shù)推出了三款先進(jìn)的光罩檢測(cè)系統(tǒng)，Teron 640、Teron SL655 和光罩決策中心 (RDC)。這三套系統(tǒng)可謂是為實(shí)現(xiàn)當(dāng)前及下一代掩膜設(shè)計(jì)而生的關(guān)鍵，為光罩廠及集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識(shí)光刻中顯著并嚴(yán)重?fù)p害成品率的缺陷提供保障。
熊亞霖博士表示，KLA-Tencor 所提供的設(shè)備已能應(yīng)用于第一代 EUV 技術(shù)的量產(chǎn)，之后亦能以升級(jí)方式量產(chǎn)新一代的 EUV 技術(shù)。
Teron 640
Teron 640 建立在光罩業(yè)界領(lǐng)先的 Teron 光罩檢測(cè)平臺(tái)之上，通過(guò)采用 193 納米光源和雙成像模式（結(jié)合了高分辨率檢測(cè)和基于缺陷成像性識(shí)別的空中成像）。Teron 640 檢測(cè)系統(tǒng)支持先進(jìn)的光學(xué)光罩檢測(cè)，它利用創(chuàng)新的雙重成像技術(shù)，為光罩廠提供了必要的靈敏度并提供準(zhǔn)確的品質(zhì)檢驗(yàn)。Teron 640 的新穎之處在于，它采用光學(xué)方法模擬光刻機(jī)的辦法，與設(shè)計(jì)做比較，通過(guò)成像來(lái)判斷光罩缺陷。
Teron SL655
Teron SL655 檢測(cè)系統(tǒng)，采用全新的 STARlightGold 技術(shù)作為核心，可幫助集成電路制造商評(píng)估新光罩的質(zhì)量、監(jiān)測(cè)光罩退化、檢測(cè)光罩缺陷。STARlightGOLD 能夠在新光罩質(zhì)量檢查時(shí)從光罩生成黃金參考，然后使用此參考進(jìn)行光罩合格性的重新檢測(cè)，這種獨(dú)特的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了全域光罩覆蓋，并且創(chuàng)造出最佳的缺陷檢測(cè)率。
Teron SL655 擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能，支持更快的生產(chǎn)周期和檢測(cè)更多數(shù)量的光罩，滿足先進(jìn)的多圖案技術(shù)光罩技術(shù)。
RDC
RDC 是一套綜合數(shù)據(jù)分析和存儲(chǔ)平臺(tái)，支持光罩廠和集成電路晶圓廠的多種 KLA-Tencor 光罩檢驗(yàn)與測(cè)量平臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)缺陷識(shí)別自動(dòng)化，從而改善周期時(shí)間，并減少關(guān)鍵性錯(cuò)誤。
熊亞林博士表示：通過(guò)將 Teron 640 和 Teron SL655 生成的大量數(shù)據(jù)與 RDC 的評(píng)估功能緊密結(jié)合，光罩廠和集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識(shí)光刻中顯著的光罩缺陷，從而改善光罩的質(zhì)量控制，并獲得更好的產(chǎn)品圖案成像。
不止奔跑于“最前端”
張智安總裁表示，KLA-Tencor 不僅僅奔跑于“最前端”、提供最先進(jìn)的設(shè)備，KLA-Tencor 根據(jù)企業(yè)的需求提供設(shè)備，服務(wù)于整個(gè)行業(yè)的每個(gè)階段的企業(yè)，比如 KLA-Tencor 30 年前的產(chǎn)品還在銷(xiāo)售中。
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