LGD｜聯(lián)手延世大學開發(fā)出柔性透明光罩技術，可應用于LCD/OLED制程

LG 顯示（以下 LGD）通過產(chǎn)學合作孵化課題支援，聯(lián)手延世大學 Shim Uyeong（新材料工學科）教授團隊，開發(fā)出革新性新面板技術。研發(fā)成果刊登于國際學術期刊 Nature Communications。

根據(jù)韓媒 inews24 報道，研究團隊利用柔性透明的新型 Photo 光罩實現(xiàn)了超精細 Pattern，是一種全新的光刻（Photolithography）技術。此技術可應用至 LCD 和 OLED 制程。

圖：延世大學 Shim Uyeong 教授

光刻（Photolithography）技術是指半導體和面板制程中，將光刻膠（Photo resist）感光液薄涂于晶圓或玻璃上，然后將繪制 Pattern 的光罩置于其上，通過照光形成電路的技術。而此電路的成型，主要取決于稱之為 Photo mask 的核心部件。

研究團隊為了克服傳統(tǒng)光罩的硬性特征，開發(fā)出柔性、透明的新光罩制程，利用原有曝光設備實現(xiàn)了 100 分之 1 水平的數(shù)十納米單位超精細 Pattern。

超精細 Pattern 繪制出的電路是面板實現(xiàn)超高像素不可或缺的關鍵。而柔性材質(zhì)的光罩，還可應用于曲面基板，將有助于多種形態(tài)的面板生產(chǎn)。

論文的共同作者 LGD Jang Giseok 博士表示：本次開發(fā)出的新光刻技術是一種可以為未來面板技術帶來巨大貢獻的種子（Seeds）技術。

LGD 是從 2015 年起進行面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展‘LGD- 延世大學孵化器’項目。是一種企業(yè)和高校共同搜集面板技術和產(chǎn)品相關的新概念，并從產(chǎn)業(yè)化角度進行企劃、研發(fā)、驗證的項目。

延世大學 Shim Uyeong 教授認為：此研發(fā)成果的主要意義在于，研發(fā)出可以克服光折射限制的光刻技術，除了平面以外，也可應用至曲面基板，期待未來可以應用到多樣化形態(tài)的元器件制程。
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