芯耀
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2007 年，上海微電子就研制出了我國首臺 90 納米高端投影光刻機，成為世界上第四家掌握高端光刻技術(shù)的公司。但是，十多年過去了，如今的光刻技術(shù)依舊停留在 90 納米。
國產(chǎn)光刻機到底有多“難產(chǎn)”，我們在上上上上上上上一篇就說過了。
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作為代表著我國光刻技術(shù)先進水平的上海微電子，從誕生之際就被寄予了厚望。
時間回到 2002 年，科技部下決心在“十五”期間將光刻機作為微電子裝備首要攻關(guān)項目。在國家科技部和上海市政府共同推動下，由國內(nèi)多家企業(yè)集團和投資公司共同投資組建下， 為實現(xiàn)“用中國人的光刻機造中國芯”的夢想，2002 年 3 月，上海微電子裝備有限公司（SMEE）在上海張江應(yīng)運而生。
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原本就職于上海電氣集團執(zhí)行副總裁的賀榮明，受上級指派擔(dān)任上微總經(jīng)理，帶著同行的小伙伴們一頭扎進了光刻機鉆研之路。
SMEE 自“十一五”開始至今一直被國家確定為“02”科技重大專項高端掃描投影光刻機研制和先進封裝光刻機產(chǎn)業(yè)化的承擔(dān)單位。
什么是“02 專項”？
很簡單，因為在國家劃出的 16 個高科技領(lǐng)域重大專項中，關(guān)于芯片制造的項目排在第 2 位，所以行業(yè)統(tǒng)稱為“02 專項”。
據(jù)悉，02 專項光刻機項目有多個部門參與，分別負責(zé)不同的子項。其中，上微也認領(lǐng)到了 02 專項的部分參與項目:
承擔(dān)“浸沒光刻機關(guān)鍵技術(shù)預(yù)研項目”
90nm 光刻機樣機研制
65nm 光刻機研制
大視場 / 雙面對準步進投影光刻機
28nm 節(jié)點浸沒式分步重復(fù)投影光刻機研發(fā)成功并實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化等等。
在 02 專項光刻機項目二期中，設(shè)定的時間為 2020 年 12 月驗收 193nmArF 浸沒式 DUV 光刻機，對標產(chǎn)品為 ASML 現(xiàn)階段最強 DUV 光刻機：TWINSCAN NXT:2000i。
距離今天倒計時，不到 4 個月
首臺光刻樣機問世
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是什么卡住了我們的“脖子”？
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當(dāng)我國攻破這些難題之后，開始從 90nm 向 65nm 光刻機進發(fā)。得知此消息的國外陣營立刻擺出了第二張面孔，2015 年以美國為首的瓦森納協(xié)議表示允許 65nm 以上的設(shè)備銷售給中國。要知道，2010 年的可是禁售 90nm 以下的設(shè)備，到了 2015 年就改成了 65nm 以下了。
2017 年 1 月份，公司完成股改，正式更名為上海微電子裝備（集團）股份有限公司。目前上海微電子自主研發(fā)的 600 系列光刻機，已經(jīng)實現(xiàn) 90nm 的量產(chǎn)。在封裝光刻機領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)了批量供貨，上微是多家封測龍頭企業(yè)（日月光、通富微電、長電科技等）的主要供貨商，國內(nèi)封裝光刻機市場占有率高達80%。不只在國內(nèi)市場有所建樹，上海微電子的封裝光刻機還出口海外市場，在全球市場的占有率高達40%。
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據(jù)公開資料顯示，SMEE 直接持有的各類專利及專利申請超過3200 項，涉及光刻機、激光與檢測、特殊應(yīng)用類等各大產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域，是國內(nèi)工業(yè) 4.0、先進制造、智能制造的典型代表。
2020 年 6 月，SMEE 透露，將在 2021-2022 年交付首臺國產(chǎn) 28nm 工藝浸沒式光刻機。這則讓全民都振奮的消息，意味著國產(chǎn)光刻機工藝從以前的 90nm 一舉突破到 28nm。消息一出，ASML 就立即甩貨同代與上代的光刻機搶占中國市場。還是一貫的伎倆、一如既往地的手段，但是，我們只能往前。
“你看過賽馬嗎？馬的雙目邊都有塊"板"，這樣馬的視覺廣角小一點，更專心往前跑”，賀榮明說，“歷史賦予我們這批人研發(fā)中國光刻機的任務(wù)，我們也就不該再想別的了。”
