光刻機(jī)

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光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。

光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。收起

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  • 春招進(jìn)行時(shí)，ASML最新人才戰(zhàn)略解析
    對(duì)于此次春季招聘會(huì)，ASML中國(guó)區(qū)人力資源總經(jīng)理毛琴表示：“春季招聘會(huì)是從去年開(kāi)始啟動(dòng)的，主要是為了滿足ASML中國(guó)對(duì)人才的增長(zhǎng)需求。目前公司在中國(guó)的員工數(shù)已達(dá)1900余名，對(duì)比過(guò)去5年的員工數(shù)量，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)幾乎翻番。今年，ASML將繼續(xù)面向社會(huì)和高校開(kāi)放多種類(lèi)型的崗位，涵蓋支持工程師、軟件工程師、開(kāi)發(fā)工程師、工藝工程師、維修等技術(shù)崗位，以及采購(gòu)和服務(wù)等職能崗位。”
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    04/16 19:10
    春招進(jìn)行時(shí)，ASML最新人才戰(zhàn)略解析
  • ASML、NIKON、CANON光刻機(jī)型號(hào)數(shù)據(jù)匯總（2025版）
    今天整理一個(gè)簡(jiǎn)易版（省略部分過(guò)于專業(yè)的參數(shù)指標(biāo)）的光刻機(jī)型號(hào)匯總，供大家參考完整數(shù)據(jù)的原始EXCEL表格文件，我已經(jīng)放到了知識(shí)星球的云盤(pán)上供會(huì)員使用。
    ASML、NIKON、CANON光刻機(jī)型號(hào)數(shù)據(jù)匯總（2025版）
  • 如何提高光刻機(jī)的NA值？
    學(xué)員問(wèn)：為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值，為什么？怎樣提高？什么是NA值？如上圖是Asml PAS5000型號(hào)的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA，又名數(shù)值孔徑，是影響分辨率(R)，焦深（DOF）的重要參數(shù)，公式為
  • ASML，今年賣(mài)了多少光刻機(jī)？
    今年，ASML的High NA EUV光刻機(jī)成為設(shè)備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標(biāo)準(zhǔn) EUV 光刻機(jī)的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進(jìn)制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺(tái)積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。
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  • 深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來(lái)仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開(kāi)激烈競(jìng)爭(zhēng)，爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來(lái)新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。
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  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)，微納加工的下一個(gè)答案？
    第十四屆中國(guó)國(guó)際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（簡(jiǎn)稱“納博會(huì)”）在萬(wàn)眾矚目中圓滿落下了帷幕。這場(chǎng)全球納米科技領(lǐng)域盛會(huì)，以1場(chǎng)主報(bào)告、13場(chǎng)分論壇、1場(chǎng)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，1場(chǎng)新產(chǎn)品發(fā)布會(huì)為主，匯聚了全球納米科技領(lǐng)域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企業(yè)機(jī)構(gòu)的頂級(jí)專家代表出席，分享專業(yè)報(bào)告476場(chǎng)，較往屆增加132場(chǎng)，同比增長(zhǎng)約33%，吸引9663位嘉賓參會(huì)聽(tīng)會(huì)。
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  • 整整185種！ASML、NIKON、CANON御三家光刻機(jī)型號(hào)大全
    在所有半導(dǎo)體設(shè)備里，光刻機(jī)確實(shí)是一個(gè)最有話題熱度的門(mén)類(lèi)了。我之前從ASML、NIKON、CANON三家的官網(wǎng)上下載收錄了他們目前銷(xiāo)售的光刻機(jī)型號(hào)，并匯總做成表格供大家參考，讀者反饋不錯(cuò)。更有行業(yè)大佬寫(xiě)文章時(shí)引用我的數(shù)據(jù)后更是給我的公眾號(hào)帶來(lái)一波巨大流量。
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    2評(píng)論
    2024/10/31
    整整185種！ASML、NIKON、CANON御三家光刻機(jī)型號(hào)大全
  • 全球光刻機(jī)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇，ASML財(cái)報(bào)引發(fā)關(guān)注
    近日，ASML發(fā)布最新三季度財(cái)報(bào)后，股價(jià)創(chuàng)26年來(lái)最大跌幅引起市場(chǎng)極大關(guān)注。在此期間，尼康和佳能陸續(xù)發(fā)布的光刻機(jī)研發(fā)最新進(jìn)展也引起行業(yè)聚焦。
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  • 為什么研發(fā)EUV光刻機(jī)那么難？
    雖然表面上看，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機(jī)依賴于波長(zhǎng)僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個(gè)非常難以控制的“燈泡”，但這個(gè)“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強(qiáng)大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會(huì)影響最終的成像效果。
    為什么研發(fā)EUV光刻機(jī)那么難？
  • ASML阿斯麥業(yè)績(jī)“爆雷”，影響會(huì)波及多大？芯片需求真飽和了？
    日前，荷蘭光刻機(jī)企業(yè)阿斯麥公布業(yè)績(jī)“爆雷”，當(dāng)日股價(jià)大跌16.26%，創(chuàng)近26年來(lái)最大單日跌幅，拖累美股芯片股集體下挫，包括英偉達(dá)、AMD、英特爾等半導(dǎo)體企業(yè)都出現(xiàn)不同幅度的下跌。據(jù)悉，阿斯麥第三季度的訂單量?jī)H達(dá)到分析師預(yù)期的一半左右，并下調(diào)了2025年的業(yè)績(jī)指引。
    ASML阿斯麥業(yè)績(jī)“爆雷”，影響會(huì)波及多大？芯片需求真飽和了？
  • 2024 CSEAC：半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速，競(jìng)爭(zhēng)力在哪里？
    尊重知識(shí)產(chǎn)權(quán)和打造差異化競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)是中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當(dāng)前，低價(jià)競(jìng)爭(zhēng)導(dǎo)致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙，它削弱了設(shè)備企業(yè)的研發(fā)能力，阻礙了技術(shù)的迭代升級(jí)。半導(dǎo)體設(shè)備廠商需要維持40%-50%的毛利潤(rùn)率，以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設(shè)備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識(shí)產(chǎn)權(quán)，也不利于企業(yè)的長(zhǎng)期發(fā)展。
    2024 CSEAC：半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速，競(jìng)爭(zhēng)力在哪里？
  • 納米壓印，中國(guó)企業(yè)有哪些？
    歡迎關(guān)注硬科技的投資人和創(chuàng)業(yè)者加入“創(chuàng)道硬科技”平臺(tái)，微信riseen001
  • 聊聊國(guó)內(nèi)首臺(tái)重大技術(shù)裝備（2）
    上次，介紹了《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中介紹的硅外延爐，濕法清洗機(jī)，氧化爐，見(jiàn)文章：《聊聊國(guó)內(nèi)首臺(tái)重大技術(shù)裝備（1）》 這次來(lái)解讀一下目錄中提到的勻膠顯影機(jī)，光刻機(jī)及離子注入機(jī)。
  • 聊聊光刻機(jī)的原理、現(xiàn)狀與未來(lái)
    光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備，相當(dāng)于芯片制造工藝的“印刷機(jī)”，它的精度直接影響芯片的制程和性能。根據(jù)不同光源類(lèi)型，光刻機(jī)可以分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）和EUV（極紫外線）三大類(lèi)。光刻機(jī)的分辨率主要由兩個(gè)參數(shù)決定：光源的波長(zhǎng)（λ）和物鏡系統(tǒng)的數(shù)值孔徑（NA）。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，波長(zhǎng)越短、數(shù)值孔徑越大，光刻機(jī)的分辨率就越高。
    聊聊光刻機(jī)的原理、現(xiàn)狀與未來(lái)
  • 特種玻璃巨頭肖特發(fā)力半導(dǎo)體業(yè)務(wù)，新材料基板成為下一代芯片突破口
    全球高科技特種材料領(lǐng)軍企業(yè)肖特集團(tuán)（SCHOTT AG）于9月12日舉辦媒體招待會(huì)，在第七屆進(jìn)博會(huì)舉辦倒數(shù)50天之際，向中國(guó)市場(chǎng)更深入地介紹半導(dǎo)體行業(yè)特種玻璃材料的應(yīng)用范圍、技術(shù)優(yōu)勢(shì)、市場(chǎng)前景以及在中國(guó)的布局和發(fā)展。 隨著人工智能、大數(shù)據(jù)等前沿領(lǐng)域的快速發(fā)展，各行各業(yè)對(duì)芯片的算力、帶寬、互連密度提出了越來(lái)越高的要求。同時(shí)，未來(lái)芯片設(shè)計(jì)與制造還需要應(yīng)對(duì)耗能極高的挑戰(zhàn)。然而，芯片制造越來(lái)越受限于物理定
    特種玻璃巨頭肖特發(fā)力半導(dǎo)體業(yè)務(wù)，新材料基板成為下一代芯片突破口
  • 大型科普（二）：為什么28nm光刻機(jī)哪怕上多曝也做不到7nm？
    為什么28nm光刻機(jī)不能通過(guò)多曝工藝實(shí)現(xiàn)14nm，甚至7nm的光刻工藝？帶著這樣的問(wèn)題，再經(jīng)過(guò)中國(guó)半導(dǎo)體圈最熱鬧大群“愛(ài)生活，愛(ài)芯片，賺大錢(qián)”里各位大佬的各種科普和深度探討，我感覺(jué)我自己的知識(shí)又增加了。反正咔嚓記下來(lái)不少，又是總之咔嚓不虧，最終咔嚓贏麻的一天！
    大型科普（二）：為什么28nm光刻機(jī)哪怕上多曝也做不到7nm？
  • 大型科普：多曝工藝究竟是如何超過(guò)光刻機(jī)的極限分辨率？
    這幾天隔壁有群友問(wèn)了我一個(gè)非常專業(yè)的問(wèn)題：多曝工藝是什么？它是如何跨過(guò)光刻機(jī)的極限分辨率實(shí)現(xiàn)更小制程的工藝？好問(wèn)題，畢竟半導(dǎo)體工藝的問(wèn)題專業(yè)是真的專業(yè)，真不是普通人能理解的，網(wǎng)上很多理解都是錯(cuò)的。想要了解多曝工藝的問(wèn)題，首先得了解這個(gè)知識(shí)點(diǎn)的前置知識(shí)，因此今天內(nèi)容分三段，第一、光刻設(shè)備分辨率是怎么來(lái)的？第二、晶體管的特征尺寸以及等效工藝的命名方式？第三、多曝工藝是什么，一共有哪幾種多曝工藝？？？
    大型科普：多曝工藝究竟是如何超過(guò)光刻機(jī)的極限分辨率？
  • Scanner為什么那么快？
    學(xué)員問(wèn)：ASML的TWINSCAN XT系列的scanner機(jī)臺(tái)的WPH最高能達(dá)到300pcs，為什么Scanner的產(chǎn)能遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于stepper？
  • ASML、NIKON、CANON光刻機(jī)型號(hào)參數(shù)匯總
    之前，我發(fā)布了一個(gè)ASML光刻機(jī)的型號(hào)參數(shù)的匯總列表?？雌饋?lái)大家對(duì)這個(gè)數(shù)據(jù)非常感興趣，實(shí)際的閱讀量遠(yuǎn)超我最初的預(yù)估既然如此，那我就多發(fā)布一些數(shù)據(jù)吧。這次，我干脆把全球前道光刻機(jī)供應(yīng)商御三家：ASML、NIKON、CANON的全部數(shù)據(jù)都一次性發(fā)布出來(lái)，供大家參考吧老粉絲應(yīng)該或許還記得我以前也發(fā)布過(guò)這個(gè)數(shù)據(jù)。
    ASML、NIKON、CANON光刻機(jī)型號(hào)參數(shù)匯總

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