薄膜技術(shù)

• 一文了解芯片鍍膜技術(shù)及檢測方法

  薄膜外延生長是一種關(guān)鍵的材料制備方法，其廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、光電子學(xué)和納米技術(shù)領(lǐng)域。該過程涉及材料的原子或分子逐層沉積在襯底表面，形成具有特定性能和結(jié)構(gòu)的薄膜，因此其生長過程會直接影響到薄膜的結(jié)構(gòu)以及其最終性能。

  半導(dǎo)體全解

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  03/17 11:20

  薄膜技術(shù)

  
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  等離子增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）是一種常用的薄膜制備技術(shù)，通過在等離子體條件下進行化學(xué)反應(yīng)，在固體襯底表面形成均勻、致密、具有良好性能的薄膜。等離子體在PECVD過程中起著關(guān)鍵作用，通過激活氣體分子和表面反應(yīng)，影響薄膜的生長速率、結(jié)構(gòu)和性質(zhì)。

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  2024/08/16

  PECVD 薄膜技術(shù)

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