作者 | 方文三
電子微芯片是現(xiàn)代世界的核心,它們廣泛存在于我們的筆記本電腦、智能手機(jī)、汽車和家用電器中。多年來,制造商一直在努力提升芯片的功能性能和能效,從而增強(qiáng)了我們電子設(shè)備的性能。
然而,由于芯片制造成本和復(fù)雜性的增加,以及物理定律所設(shè)定的性能限制,這一趨勢正逐漸減弱。
與此同時,AI的快速發(fā)展也帶來了對更高計算能力的需求。光子計算利用光(光子)而非電(電子)來傳輸和處理信息,有望實現(xiàn)更高的速度、更大的帶寬和更高的效率。
擺脫傳統(tǒng)局限的光子芯片在AI時代下發(fā)光
在處理更為復(fù)雜的計算任務(wù)時,尤其是涉及超過5000億個參數(shù)的大型模型時,我們面臨重大挑戰(zhàn)——系統(tǒng)的性能越來越受到計算節(jié)點(diǎn)間通信的影響,而非計算本身。
傳統(tǒng)的電子輸入/輸出(I/O)解決方案難以滿足芯片間及跨系統(tǒng)數(shù)據(jù)傳輸日益增長的需求。
隨著計算能力的提升,電子信號的局限性愈發(fā)明顯,導(dǎo)致功耗增加、熱管理問題,最終限制了系統(tǒng)性能。
電子芯片以硅為基礎(chǔ),當(dāng)制程降至7納米以下時,便容易出現(xiàn)電涌和電子擊穿等問題,導(dǎo)致難以控制。
光芯片則提供了新的解決方法,不僅能夠克服功耗和訪存能力的瓶頸,還能催生許多前所未有的應(yīng)用場景。
光子芯片的出現(xiàn),被視為一種革命性的解決方案,旨在通過光學(xué)而非電子方式進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸和處理,以實現(xiàn)數(shù)據(jù)中心性能的大幅提升和能效的顯著優(yōu)化。
傳統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù)在AI領(lǐng)域的局限性,以及數(shù)據(jù)中心和智能邊緣中高性能AI與ML應(yīng)用的需求,推動了對速度更快、可擴(kuò)展性更強(qiáng)的芯片的追求。
在數(shù)據(jù)中心,龐大的訓(xùn)練數(shù)據(jù)集、大型語言模型(LLM)以及深度強(qiáng)化學(xué)習(xí)(DRL)已經(jīng)觸及了計算能力和內(nèi)存帶寬的極限。
在邊緣計算領(lǐng)域,高級駕駛輔助系統(tǒng)(ADAS)、可穿戴設(shè)備、醫(yī)療設(shè)備以及工業(yè)4.0基礎(chǔ)設(shè)施對芯片的需求日益復(fù)雜化,以實現(xiàn)在更低功耗下的快速實時推理。
利用光子芯片釋放效率與可擴(kuò)展性,基于光的光子芯片能夠為更高效、更可持續(xù)的GenAI、DRL和AGI工作負(fù)載提供互補(bǔ)且切實可行的解決方案。
光芯片的應(yīng)用場景獲得了極大的拓展
光子芯片簡單而言,是利用光信號進(jìn)行數(shù)據(jù)獲取、傳輸、計算、存儲和顯示的芯片。
光子芯片在當(dāng)下時代備受追捧,主要得益于其兩方面的優(yōu)勢:
一是性能優(yōu)勢,包括高計算速度、低功耗、低時延;
其二則是制造優(yōu)勢,制程要求相對較低。
具體而言,由于光的傳播速度極快且具有高帶寬的特點(diǎn),它能夠在更短時間內(nèi)傳輸更大規(guī)模的數(shù)據(jù)。
此外,光信號幾乎不產(chǎn)生電阻熱損耗,能效比傳統(tǒng)電信號高。
部分?jǐn)?shù)據(jù)顯示,光子芯片的計算速度大概是電子芯片的三個數(shù)量級,約1000倍。
而光子芯片的功耗僅為電子芯片的百分之一,單位電子芯片和耗電量大約為300W,對應(yīng)的光子芯片的耗電量只有4W。
光芯片不僅能在計算領(lǐng)域大顯身手,主要應(yīng)用于光通信、數(shù)據(jù)中心、超高速互聯(lián)網(wǎng)、光子計算、量子計算和傳感器等領(lǐng)域,也在其他領(lǐng)域展現(xiàn)其應(yīng)用前景。
例如,抗干擾性能強(qiáng)的光子技術(shù)使得光子雷達(dá)的研發(fā)成為可能,自動駕駛、圖像識別、虛擬現(xiàn)實、數(shù)云平臺等領(lǐng)域,光芯片也已被大量采用。
在生命健康、超導(dǎo)材料以及國防裝備等方面,光芯片可實現(xiàn)更高效的數(shù)據(jù)處理和分析,將形成神經(jīng)光子學(xué)、免疫分析、高超音速武器等新的重大應(yīng)用場景。
在材料選擇方面,光芯片的材料選擇至關(guān)重要,不同于電芯片主要使用硅(Silicon),光芯片需要使用適合光傳輸和調(diào)制的材料。
光子技術(shù)構(gòu)成橫向擴(kuò)展架構(gòu)的核心
光纖鏈路的運(yùn)用,促進(jìn)了跨越機(jī)架與行的交換機(jī)之間的連接,從而實現(xiàn)了網(wǎng)絡(luò)規(guī)模的擴(kuò)展。
盡管橫向擴(kuò)展網(wǎng)絡(luò)已普遍采用光學(xué)技術(shù),但網(wǎng)絡(luò)的縱向擴(kuò)展向光子學(xué)的轉(zhuǎn)變?nèi)栽谶M(jìn)行中,尚未完全實現(xiàn)。
目前,可插拔光纖收發(fā)器能夠在數(shù)十米范圍內(nèi)實現(xiàn)網(wǎng)卡與交換機(jī)間的數(shù)據(jù)傳輸。
然而,隨著數(shù)據(jù)傳輸速率的提升,這些解決方案正面臨日益增長的功耗和性能瓶頸。
為了適應(yīng)大規(guī)模語言模型(LLM)的增長和吞吐量需求,橫向擴(kuò)展網(wǎng)絡(luò)的數(shù)據(jù)傳輸速率持續(xù)提升,導(dǎo)致網(wǎng)絡(luò)功率已超過加速器機(jī)架的功率。
英偉達(dá)指出,將可插拔光模塊轉(zhuǎn)變?yōu)镃PO可顯著降低1.6Tbps鏈路的光模塊功率,從30瓦特降至9瓦特。
英偉達(dá)在GTC25上推出了首款搭載CPO的橫向擴(kuò)展交換機(jī)。
其節(jié)能特性使得GPU密度得以提升——在相同的數(shù)據(jù)中心功率范圍內(nèi),GPU數(shù)量最多可增加3倍。
目前,縱向擴(kuò)展互連主要依賴銅線。英偉達(dá)的Blackwell架構(gòu)采用全銅解決方案NVLink72,其廣泛的布線貫穿了主板、交換機(jī)和機(jī)架背板。
隨著信號頻率的提高,銅線束可以直接連接到GPU,從而繞過傳統(tǒng)的PCB走線。
新的統(tǒng)一接口需要兼顧兩者的優(yōu)勢——合并后的規(guī)范應(yīng)超越它們所取代的傳統(tǒng)接口。
預(yù)計在未來幾年內(nèi),規(guī)?;W(wǎng)絡(luò)將開始向CPO過渡,并預(yù)計在2030年代大規(guī)模替換可插拔式光模塊。
到2030年,CPO市場規(guī)模預(yù)計將從目前的零增長至50億美元。
博通、Marvell、Ayar Labs、Celestial AI和Lightmatter等早期參與者,以及Coherent等激光器供應(yīng)商,都將從這一趨勢中受益。
結(jié)尾:在光子芯片領(lǐng)域國內(nèi)多個城市展現(xiàn)出潛力
近年來,隨著AI的迅猛發(fā)展,光芯片在通信、AI、數(shù)據(jù)中心等多個領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的發(fā)展?jié)摿Α?/p>
預(yù)計到2025年,全球光電子產(chǎn)業(yè)市場規(guī)模有望突破2000億美元,其中光芯片的需求量預(yù)計將占據(jù)相當(dāng)大的份額。
在龐大的市場需求驅(qū)動下,廣東、江蘇、陜西等國內(nèi)多個地區(qū)正積極進(jìn)軍光芯片領(lǐng)域。
《光子時代:光子產(chǎn)業(yè)發(fā)展白皮書》顯示,西安光子產(chǎn)業(yè)集群已初具規(guī)模,形成了光子制造、光子信息、光子傳感等產(chǎn)業(yè)集群,在特定關(guān)鍵核心技術(shù)方面具有顯著的領(lǐng)先優(yōu)勢。
超過200家光子技術(shù)企業(yè)聚集在西安,孕育并孵化了炬光科技、萊特光電、中科微精、奇芯光電等一批國內(nèi)領(lǐng)先的光子技術(shù)企業(yè)。
武漢是我國較早進(jìn)行光電子產(chǎn)業(yè)基地規(guī)劃和布局的城市,是我國光子產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)跑者和產(chǎn)業(yè)高地。
武漢以[中國光谷]建設(shè)為引領(lǐng),加速光子產(chǎn)業(yè)布局,光子產(chǎn)業(yè)主體總量突破19.1萬戶,建成了全球最大的光纖光纜產(chǎn)業(yè)基地,光器件研發(fā)生產(chǎn)全國第一。
蘇州被譽(yù)為[中國光電纜之都],形成了國內(nèi)最完整的光通信產(chǎn)業(yè)鏈和最具影響力的產(chǎn)業(yè)集群,在國內(nèi)外樹立了蘇州光通信的整體區(qū)域品牌。
蘇州將光子產(chǎn)業(yè)定位為全市[1號產(chǎn)業(yè)工程],推出[高光20條]政策。
其中,光子領(lǐng)域國家級高成長企業(yè)數(shù)量達(dá)到142家,形成了完善的企業(yè)梯次發(fā)展體系。
去年九月,我國首個光子芯片中試線在無錫正式啟用。
此舉標(biāo)志著我國光子芯片產(chǎn)業(yè)正式邁入產(chǎn)業(yè)化快速發(fā)展的軌道,將打破傳統(tǒng)計算模式的局限,為大規(guī)模智能計算開辟新的可能性。
該中試平臺總面積達(dá)1.7萬平方米,集科研、生產(chǎn)、服務(wù)功能于一體,實現(xiàn)了從薄膜鈮酸鋰光子芯片的光刻、薄膜沉積、刻蝕、濕法處理、切割、量測到封裝的全流程閉環(huán)生產(chǎn)。
中試線啟用后,預(yù)計年產(chǎn)能將達(dá)到10000片晶圓,預(yù)計至2025年第一季度將正式對外提供流片服務(wù)。
近期,國產(chǎn)高端光芯片外延片在蘇州實現(xiàn)量產(chǎn)。芯辰半導(dǎo)體宣布,其外延設(shè)備已投入生產(chǎn),覆蓋了砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)光芯片四元化合物的全材料體系。
芯辰半導(dǎo)體目前已實現(xiàn)波長范圍在760 nm至1700nm的外延片量產(chǎn),外延片的均勻性控制在激射中心波長外2nm以內(nèi)。
部分資料參考:全球半導(dǎo)體觀察:《中國光芯片領(lǐng)域再迎重大進(jìn)展,江蘇/四川等地集體[追光]》,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫:《光子芯片,助力AI》,智車行家:《解讀光子芯片:高傳輸速度+高寬帶,AI 浪潮下核心前景技術(shù)》,縱論天下之事:《光芯片,正在破局》