2nm工藝

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  • 先進(jìn)制程巨頭“聯(lián)姻”,一場(chǎng)怎樣的陽謀?
    全球半導(dǎo)體先進(jìn)制程正陷入一種前所未有的“膠著態(tài)”。在2nm工藝的全球競(jìng)賽進(jìn)入倒計(jì)時(shí)之際,英特爾代工仍在虧損,急于找到有效的“輸血”途徑;臺(tái)積電則在關(guān)稅等陰云籠罩下,為求得一條平衡全球業(yè)務(wù)布局的道路而不停奔波。
    先進(jìn)制程巨頭“聯(lián)姻”,一場(chǎng)怎樣的陽謀?
  • 2nm戰(zhàn)場(chǎng),好戲來了
    本周,2nm在各大網(wǎng)站強(qiáng)勢(shì)刷屏。臺(tái)積電此前表示,2nm芯片將于4月1日起接受訂單預(yù)訂。隨著時(shí)間逐漸來到4月,它終于猶抱琵琶半遮面,緩緩露出真容。臺(tái)積電、Intel、Rapidus等芯片巨頭均在本周再度更新了2nm芯片的量產(chǎn)進(jìn)展。
    2nm戰(zhàn)場(chǎng),好戲來了
  • 2nm工藝大考倒計(jì)時(shí)
    臺(tái)積電近期表示,2nm工藝技術(shù)進(jìn)展良好,將如期在今年下半年量產(chǎn),產(chǎn)能在今年年底前有望達(dá)到5萬片,甚至有機(jī)會(huì)邁上8萬片臺(tái)階。
    2nm工藝大考倒計(jì)時(shí)
  • 2025年2納米晶圓廠全力加速建設(shè)
    ChatGPT之后,DeepSeek橫空出世,助力AI大模型持續(xù)升溫。AI驅(qū)動(dòng)之下,先進(jìn)制程芯片需求持續(xù)高漲。當(dāng)前3納米芯片已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),為滿足未來市場(chǎng)對(duì)更先進(jìn)制程芯片的需求,多家廠商積極布局2納米晶圓廠,且目標(biāo)2025年量產(chǎn)/試產(chǎn)。隨著目標(biāo)時(shí)間臨近,2納米晶圓廠建設(shè)進(jìn)入全力加速階段。
    2025年2納米晶圓廠全力加速建設(shè)
  • 2nm,要來了
    在半導(dǎo)體制造中,2nm工藝是繼3nm工藝節(jié)點(diǎn)之后的下一個(gè)MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)芯片微縮技術(shù)?!?nm”或“20埃”(英特爾使用的術(shù)語)與晶體管的任何實(shí)際物理特征(例如柵極長(zhǎng)度、金屬間距或柵極間距)無關(guān)。根據(jù)電氣和電子工程師協(xié)會(huì)(IEEE)發(fā)布的2021 年更新的《國(guó)際設(shè)備和系統(tǒng)路線圖》中的預(yù)測(cè),“2.1 nm節(jié)點(diǎn)范圍標(biāo)簽”預(yù)計(jì)接觸柵極間距為 45 nm,最緊密金屬間距為 20 nm。
    2nm,要來了
  • 良率超預(yù)期 臺(tái)積電2nm工藝產(chǎn)量年內(nèi)提至5萬片
    數(shù)年前,位于中國(guó)臺(tái)灣新竹科學(xué)園區(qū)的臺(tái)積電寶山工廠的建設(shè)正式啟動(dòng),旨在滿足市場(chǎng)對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)的迫切需求。該工廠主要承擔(dān)2nm及更先進(jìn)制程工藝的生產(chǎn)任務(wù),計(jì)劃分階段建設(shè)多個(gè)晶圓廠(如P1至P4),以逐步擴(kuò)大2nm工藝的產(chǎn)能。
    良率超預(yù)期 臺(tái)積電2nm工藝產(chǎn)量年內(nèi)提至5萬片
  • 進(jìn)程提前半年,臺(tái)積電2nm上線倒計(jì)時(shí)
    11月26日,臺(tái)積電在高雄的2nm新廠舉行設(shè)備進(jìn)機(jī)典禮。原本高雄工廠的計(jì)劃是在2025年中期引進(jìn)設(shè)備,年底進(jìn)行生產(chǎn)。受益于需求高漲,臺(tái)積電高雄工廠的時(shí)間線整整提前了半年,這也把全球2nm制造的時(shí)間表向前推進(jìn)了一步。
    進(jìn)程提前半年,臺(tái)積電2nm上線倒計(jì)時(shí)
  • 一座12英寸晶圓廠啟動(dòng),一座2nm晶圓廠將完工
    晶圓代工大廠近期動(dòng)態(tài)頻頻,牽動(dòng)晶圓代工版圖變動(dòng)。世界先進(jìn)公開表示,正式進(jìn)軍12英寸晶圓代工,并再度開啟下個(gè)30年的技術(shù)策略轉(zhuǎn)型之路,碳化硅領(lǐng)域也收入發(fā)展版圖;印度首座12英寸晶圓廠已啟動(dòng),目前印度政府已經(jīng)批準(zhǔn)了五座價(jià)值約180億美元的半導(dǎo)體工廠建設(shè)案;此外由臺(tái)積電建設(shè)的全球首座2nm晶圓廠,本月末將完工。行業(yè)多方表示,AI相關(guān)需求未來還將迸發(fā)更大潛力,臺(tái)積電的盈利還將進(jìn)一步水漲船高。
    一座12英寸晶圓廠啟動(dòng),一座2nm晶圓廠將完工
  • 摩爾定律再進(jìn)化,2納米之后芯片如何繼續(xù)突破物理極限
    提到集成電路行業(yè),那么永遠(yuǎn)繞不過一個(gè)名詞,就是摩爾定律。但摩爾定律只是經(jīng)驗(yàn)之談,本質(zhì)是預(yù)測(cè),并非什么物理層面的約束。當(dāng)時(shí)間來到2024年,等效3nm已經(jīng)商用,而2nm甚至1nm都已被提上日程,未來十年,摩爾定律又將走向何處呢?一些新技術(shù)或許會(huì)給我們帶來答案。
    摩爾定律再進(jìn)化,2納米之后芯片如何繼續(xù)突破物理極限
  • 三星公布最新先進(jìn)工藝技術(shù)路線圖 2nm工藝競(jìng)爭(zhēng)升級(jí)
    近日,三星在美國(guó)加州圣何塞舉行的三星晶圓代工論壇(SFF)上表示,在過去一年中,三星代工的AI需求相關(guān)銷售額增長(zhǎng)了80%,預(yù)計(jì)到2028年,其AI芯片代工客戶數(shù)量將比2023年增加4倍,代工銷售額將比2023年增加9倍。三星還公布了其最新的工藝技術(shù)路線圖,包括兩個(gè)新的工藝節(jié)點(diǎn)—SF2Z和SF4U,并且將為其代工客戶提供全面的“一站式”人工智能解決方案。
    三星公布最新先進(jìn)工藝技術(shù)路線圖 2nm工藝競(jìng)爭(zhēng)升級(jí)

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