光刻

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點(diǎn)資訊討論

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。收起

查看更多
  • 未來(lái)芯片制造將更依賴刻蝕而非光刻？
    近期，英特爾一位高管拋出一個(gè)頗具爭(zhēng)議的觀點(diǎn)：未來(lái)的晶體管設(shè)計(jì)（如GAAFET和CFET）可能降低芯片制造對(duì)先進(jìn)光刻設(shè)備，特別是ASML的極紫外（EUV）光刻機(jī)的依賴。這一論斷挑戰(zhàn)了當(dāng)前先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域?qū)UV技術(shù)“不可或缺”的普遍認(rèn)知，引發(fā)了業(yè)界的廣泛討論。
    未來(lái)芯片制造將更依賴刻蝕而非光刻？
  • 群賢畢至，共襄盛會(huì)——IWAPS 2025誠(chéng)邀投稿！
    第九屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì) （IWAPS 2025） IWAPS 2025? 第九屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)（IWAPS）將于10月14-15日在深圳隆重舉行！本次研討會(huì)由中國(guó)集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟、中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)主辦，中國(guó)科學(xué)院微電子研究所、深圳市半導(dǎo)體與集成電路產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟（深芯盟）、南京誠(chéng)芯集成電路技術(shù)研究院有限公司聯(lián)合承辦，誠(chéng)邀全球業(yè)界精英共赴這場(chǎng)光刻技術(shù)領(lǐng)域的學(xué)術(shù)盛宴！國(guó) 際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)（IW
    群賢畢至，共襄盛會(huì)——IWAPS 2025誠(chéng)邀投稿！

正在努力加載...